ASML再擴產:EUV曝光機90臺/年,DUV曝光機600臺/年

近日,曝光機大廠ASML在其位於荷蘭費爾德霍芬的總部召開了投資者日會議,同時也通過線上形式向投資者介紹了其對於未來公司前景的看法。

公司表示,雖然當前的宏觀環境帶來了短期的不確定性,但預計長期需求和產能將呈現健康增長。不斷擴大的應用空間和行業創新預計將繼續推動半導體市場的增長。

目前,市場強勁的增長率、持續的創新、更多的代工廠競爭和技術主權推動了對先進和成熟節點的需求增加,預計這將需要增加晶圓產能。

公司計劃調整生產能力以滿足未來的需求,為週期性做好準備。

ASML計劃將年產能提高到90個EUV和600個深紫外系統(2025-2026年),同時將高NA EUV產能提高到20個系統(2027-2028年)。

基於不同的市場情景,ASML預計會有巨大的增長機會來實現以下兩大目標。

2025年:年收入在約300億歐元至400億歐元之間,毛利率在約54%至56%之間;2030年:年收入在約440億歐元至600億歐元之間,毛利率在約56%至60%之間。

10月,ASML公佈了第三季度財報,財報顯示,其淨銷售額為58億歐元(約合410.2億元),毛利率為 51.8%,淨收入為17億歐元(約120.2億元),其淨預訂額更是達到了89億歐元(約629.4億元),創造了歷史新高。

ASML預計第四季度淨銷售額在61億歐元(約431.4億元)至66億歐元(約466.7億元)之間,毛利率約為49%,預計全年銷售額為211億歐元(約1492.1億元)。(文:拓墣產業研究 Arely整理)

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